Ultra-thin conductors and insulators
Synthesis and characterization
Ívar Meyvantsson
Faculty of Engineering, University of Iceland,
IS-107 Reykjavik,
Iceland
Abstract
In this work the electronic properties of ultra-thin metals and
insulators are described, and critical structural parameters for
the functionality of ultra-thin metal/insulator stacks are identified.
Thin film growth is discussed with an emphasis on deposition in a
magnetron sputtering discharge, and ways in which critical film
parameters may be optimized. A method for film-substrate lattice
matching involving the use of a binary metal alloy is discussed.
Finally experimental results for a Cr-Mo alloy films down to 1.8
monolayer nominal thickness are presented.
Útdráttur:
Hér er fjallað um eiginleika ofurþunnra málma og einangrara.
Bent er á þær breytistærðir sem hafa afgerandi áhrif hvað varðar virkni
stafla af einangrandi og leiðandi húðum. Ræktun þunnra húða eru gerð skil.
Einkum og sér í lagi notkun segulspætu og aðferðir til þess að besta
afgerandi breytistærðir. Leið til samhæfingar kristalgrinda
húða og undirlags, sem felur í sér notkun málmblöndu, er rædd.
Að lokum eru tilraunaniðurstöður fyrir slíkar húðir, allt niður í
1.8 atómlaga þykkt, kynntar.